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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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近年，銀鈀靶材，隨著圖像質(zhì)量的提高，色粉直徑也越來越小。在微孔孔徑較大的發(fā)泡輥筒中，銀鈀靶材廠，色粉進入輥筒的微孔內(nèi)不易去除，所以存在圖像混亂的問題。因此，對于使用微細色粉的高畫質(zhì)復印機和打印機用輥筒，特別是色粉供給輥，要求更細的微孔。在制造發(fā)泡輥筒時，哪家有銀鈀靶材，與間歇式方法相比，連續(xù)硫化處理法的優(yōu)點是能夠使發(fā)泡微孔的直徑更小。以往的導電輥使用了不會因其中的導電性填充劑的不均勻而導致電阻值不均勻的離子導電性橡膠，但是問題在于很難采用經(jīng)濟上及效率上都有利的連續(xù)硫化法進行制造。
平面顯示器（FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場，亦將帶動ITO靶材的技術(shù)與市場需求。如今的iTO靶材有兩種．一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺金靶材可以采用直流反應濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取方法生產(chǎn)ITO靶材，利用L}IRF反應濺射鍍膜．它具有沉積速度快．且能控制膜厚，銀鈀靶材報價，電導率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強等優(yōu)點。
眾所周知，靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進，靶材技術(shù)也應隨之變化。如Ic制造商．近段時間致力于低電阻率銅布線的開發(fā)，預計未來幾年將大幅度取代原來的鋁膜，這樣銅靶及其所需阻擋層靶材的開發(fā)將刻不容緩。另外，近年來平面顯示器（FPD）大幅度取代原以陰極射線管（CRT）為主的電腦顯示器及電視機市場．亦將大幅增加ITO靶材的技術(shù)與市場需求。此外在存儲技術(shù)方面。高密度、大容量硬盤，高密度的可擦寫光盤的需求持續(xù)增加．這些均導致應用產(chǎn)業(yè)對靶材的需求發(fā)生變化。下面我們將分別介紹靶材的主要應用領域，以及這些領域靶材發(fā)展的趨勢。
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第9年
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