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日照微弧技術(shù)有限公司
主營：微弧氧化,微弧氧化技術(shù),微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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1溫度對微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。
2.時間對微弧氧化的影響
微弧氧化時間一般控制在10~60min。氧化時間越長，鎂合金微弧氧化黑色膜，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。
3.陰極材料
陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。
4
微弧氧化過后，工件可不經(jīng)過任何處理直接使用，也可進行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。折疊
電鍍和陽極氧化有什么區(qū)別？
處理對象不同：
電鍍方法處理的對象主要是金屬，也可以是非金屬。常使用的電鍍鍍層金屬為鎳、鉻、錫、銅、銀及金等。也就是經(jīng)常說的鍍鎳、鍍鉻、鍍金等。
陽極氧化處理則是金屬表面處理的方法。大多數(shù)金屬材料（如不銹鋼、鋅合金、鋁合金、鎂合金、銅合金、鈦合金）都可以在適宜的電解液中進行陽極氧化處理。
微弧氧化膜層生長時，首先在基體表面發(fā)生化學反應，鋁鎂合金微弧氧化，生成一層陽極氧化膜。當增大反應電壓時，膜層厚度會進一步增加，厚度會隨之增加。但是當反應電壓增加到一定程度時，膜層會由于不能承受該工作電壓發(fā)生放電再擊穿，產(chǎn)生等離子放電。反應的高溫將使膜層發(fā)生熔融，基體元素由于處在富氧環(huán)境中，將形成氧化物。同時由于是在電解液中，熔融物將瞬間冷凝，在基體表面生成一層陶瓷。陶瓷膜的生成，將導致工作電壓進一步升高，鎂合金微弧氧化標準，膜層再次被擊穿，鎂合金微弧氧化，膜層厚度進一步增加。周而復始，膜層得以生長。
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第7年
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