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主營：微弧氧化,微弧氧化技術,微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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微弧氧化工藝
微弧氧化工藝技術是直接在有色金屬表面原位生成陶瓷層的新技術。微弧氧化工藝技術工藝簡單，對環(huán)境污染小，具備很大的性，微弧氧化設備加工廠家，它制備的膜層特點鮮明，膜層與基體金屬屬于冶金結合，結合牢固，微弧氧化加工，在制備涂層方面具有明顯優(yōu)勢，微弧氧化技術已被廣泛應用于Al、Ti 和Mg等金屬行業(yè)，是一種很有前景的表面處理工藝。
什么是微弧氧化技術？
微弧氧化技術是近幾年國內外發(fā)展較快的一項高新技術。
該技術的基本原理及特點：微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術，是指在普通陽極氧化的基礎上，利用弧光放電增強并會在陽極上發(fā)生的反應。
使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，鋁微弧氧化加工涂層，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜。（內容僅供參考）
負占空比對鈦合金微弧氧化膜層的影響
恒壓模式下，利用自制的多功能微弧氧化設備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負占空比(dc)對鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結果表明：隨著dc的增加，膜層厚度減??；膜層表面呈典型的多孔陶瓷結構，鋁合金微弧氧化加工廠家，隨dc的增大，膜層表面微孔數(shù)量減少，孔徑增大且有裂紋產生；膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時基體衍射峰消失。相對基體而言，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，膜層硬度增強，耐蝕性有一定程度的減弱。
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第7年
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