導(dǎo)電輥包括導(dǎo)電輥的外層由至少部分導(dǎo)電性由離子導(dǎo)電性聚合物的組合物賦予的導(dǎo)電性橡膠組合物構(gòu)成、內(nèi)層由離子導(dǎo)電性聚合物的組合物賦予導(dǎo)電性的導(dǎo)電層以外的橡膠等構(gòu)成的雙層導(dǎo)電輥,以及與上述相反的外層由離子導(dǎo)電性聚合物賦予導(dǎo)電性的導(dǎo)電層以外的橡膠等構(gòu)成、內(nèi)層由至少部分導(dǎo)電性由離子導(dǎo)電性聚合物的組合物賦予的導(dǎo)電性橡膠組合物構(gòu)成的雙層導(dǎo)電輥。
超純金屬,指的化學(xué)雜質(zhì)和物理雜質(zhì) (晶體缺陷) 含量的金屬。目前主要以化學(xué)雜質(zhì)的含量為標(biāo)準(zhǔn),常以雜質(zhì)在金屬中總含 量的百萬(wàn)分之幾表示 。超純金屬是相對(duì)高純度的金屬,一般指金屬純度達(dá)到純度9以上的金屬,貴金屬靶材,物理雜質(zhì)的概念才是有意義的。
材料的純度對(duì)其性能,特別是微電子學(xué)、光電子學(xué)性能影響很大,現(xiàn)代高技術(shù)產(chǎn)業(yè)要求制備出超純金屬以利于制作器件。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,貴金屬靶材多少錢,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物(氧化物)含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上,使其被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬,合金,陶瓷化合物等。
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