微弧氧化電解液組成及工藝條件
微弧氧化電解液組成:K2SiO3 5~10g/L,Na2O2 4~6g/L,NaF 0.5~1g/L,CH3COONa 2~3g/L,Na3VO3 1~3g/L;溶液pH為11~13;溫度為20~50℃;陰極材料為不銹鋼板;電解方式為先將電壓迅速上升至300V,并保持5~10s,然后將陽(yáng)極氧化電壓上升至450V,電解5~10min。
兩步電解法,靠前步:將鋁基工件在200g/L的鉀水玻璃水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化5min;第二步:將經(jīng)靠前步微弧氧化后的鋁基工件水洗后在70g/L的Na3P2O7水溶液中以1A/dm2的陽(yáng)極電流氧化15min。陰極材料為:不銹鋼板;溶液溫度為20~度為20~50℃微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線
氧化電壓對(duì)鋁等輕金屬微弧氧化效果的影響
1、低壓生成的工業(yè)鋁型材孔徑小、孔數(shù)多,高壓使工業(yè)鋁型材孔徑大,孔數(shù)少,但成工業(yè)鋁型材速度快;
2、電壓過(guò)低,成工業(yè)鋁型材速度小,實(shí)驗(yàn)室用微弧氧化電源,工業(yè)鋁型材層薄,工業(yè)鋁型材顏色淺,100kw微弧氧化電源,硬度也低。電壓過(guò)高,易出現(xiàn)工業(yè)鋁型材層局部擊穿,微弧氧化電源,對(duì)工業(yè)鋁型材層的耐蝕性不利。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化工藝、微弧氧化技術(shù)
微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜,微弧氧化電源設(shè)備,與基體呈冶金結(jié)合,膜層致密,具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達(dá)到600-1500HV(膜層厚度20-50μm),耐磨性能優(yōu)于硬質(zhì)陽(yáng)極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗(yàn)水平可達(dá)2000小時(shí)以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性,耐500V以上的高壓沖擊,且有效防止電偶腐蝕;氧化膜還具有良好的隔熱特性,是鋁合金活塞的首要選擇。
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