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日照微弧技術(shù)有限公司
主營(yíng)：微弧氧化,微弧氧化技術(shù),微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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1溫度對(duì)微弧氧化的影響
微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10-90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會(huì)形成水氣。一般建議在20-60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。
2.時(shí)間對(duì)微弧氧化的影響
微弧氧化時(shí)間一般控制在10~60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng)，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。
3.陰極材料
陰極材料可選用不銹鋼，碳鋼，鎳等，可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。
4
微弧氧化過后，工件可不經(jīng)過任何處理直接使用，微弧氧化，也可進(jìn)行封閉，電泳，拋光等后續(xù)處理。折疊
微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內(nèi)部致密的陶瓷層。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副，微弧氧化加工，摩擦率為4.9*10 -7mm3/Nm，摩擦系數(shù)0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蝕性
耐中性鹽霧腐蝕（按）≥400h ，可做至≥800h膜層無明顯腐蝕。
什么是微弧氧化？微弧氧化膜層生長(zhǎng)過程是怎樣的？
微弧氧化技術(shù)(MAO)是在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項(xiàng)新技術(shù)，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點(diǎn)。
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第6年
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