您的位置:首頁(yè) -> 公司動(dòng)態(tài)化學(xué)鎳電鍍的鍍層起皮脫落化學(xué)鎳電鍍此類故障主要有兩種可能原因,一是鍍層與基體附著力不佳,二是鍍鎳層脆性大,延展性小。
若熱處理不當(dāng)產(chǎn)生難以清除的污垢或鍍前處理不,污垢夾雜在基體與鍍層之間,使鍍層與基體結(jié)合力很差,后續(xù)裝配加工時(shí),易起皮脫落。
當(dāng)光亮劑配比不當(dāng)或質(zhì)量差、pH值太高、陰極電流密度太大及鍍液溫度過(guò)低時(shí),都會(huì)造成氫離子在陰極還原后,便以原子氫的狀態(tài)滲入基體金屬及鍍層中,使基體金屬及鍍層的韌性下降而產(chǎn)生'氫脆'現(xiàn)象。另外,當(dāng)鍍鎳液中的金屬雜質(zhì)及分解產(chǎn)物過(guò)多時(shí),也會(huì)使鍍層產(chǎn)生'氫脆'現(xiàn)象。
電鍍化學(xué)鎳是用恢復(fù)劑把溶液中的鎳離子恢復(fù)堆積在具有催化活性的表面上?;瘜W(xué)鎳可以選用多種恢復(fù)劑,青?;瘜W(xué)鎳,現(xiàn)在工業(yè)上使用廣泛的是以次磷酸鈉為恢復(fù)劑的化學(xué)鎳工藝,其反應(yīng)機(jī)理,廣泛被承受的是“氫化物理論”和“原子氫理論”。
1、氫化物理論
氫化物理論認(rèn)為,次磷酸鈉分解不是放出原子態(tài)氫,而是放出恢復(fù)才能更強(qiáng)的氫化物離子(氫的負(fù)離子H-),鎳離子被氫的負(fù)離子所恢復(fù)。在酸性鍍液中,H2PO2-在催化表面上與水反應(yīng),在堿性鍍液中,則為鎳離子被氫負(fù)離子所恢復(fù),即氫負(fù)離子H-一同可與H20或H+反應(yīng)放出氫氣:一同有磷恢復(fù)析出。
2、原子氫理論
原子氫理論認(rèn)為,溶液中的Ni2+靠恢復(fù)劑次磷酸鈉(NaH2P02)放出的原子態(tài)活性氫恢復(fù)為金屬鎳,化學(xué)鎳廠家,而不是H2PO2-與Ni2+直接作用。
先是在加熱條件下,次磷酸鈉在催化表面上水解釋放出原子氫,或由H 2PO2-催化脫氫發(fā)生原子氫,即然后,吸附在活性金屬表面上的H原子恢復(fù)Ni2+為金屬Ni堆積于鍍件表面.一同次磷酸根被原子氫恢復(fù)出磷,或發(fā)作自身氧化恢復(fù)反應(yīng)堆積出磷,H2的析出既可以是由H2POf水解發(fā)生,也可以是由原子態(tài)的氫結(jié)合而成。
化學(xué)鎳電鍍的使用壽命怎么延長(zhǎng) 1.化學(xué)鎳電鍍廠家介紹,每班開(kāi)槽前應(yīng)分析調(diào)整鍍液,并進(jìn)行試鍍,確定鍍液狀況良好后再批量入槽生產(chǎn)。
2.每班停鍍前必須將鍍液循環(huán)過(guò)濾或倒槽,以去除有害微粒,掉入鍍槽內(nèi)的工件應(yīng)及時(shí)撈出。
3.過(guò)濾機(jī)的濾芯用后要取出沖洗干凈,在過(guò)濾不同鍍液時(shí)更應(yīng)如此,化學(xué)鎳工藝,嚴(yán)禁過(guò)濾機(jī)及濾芯不經(jīng)清洗直接過(guò)濾槽液。濾芯用了一段時(shí)間后里面可能有細(xì)小的雜質(zhì),可用稀浸泡去除,然后用清水反復(fù)沖洗干凈,化學(xué)電鍍鎳,放入1:1氨水中浸泡20—30分鐘(中和),水洗干凈后再用純水沖洗后即可使用。
4.化學(xué)鎳電鍍廠家分析,根據(jù)工件重要程度可選擇新舊鍍液區(qū)別對(duì)待,也可先用舊鍍液進(jìn)行預(yù)鍍,取出后放入新鍍液中鍍覆,尤其在鍍覆鋁基體工件時(shí),此法可延長(zhǎng)鍍液使用壽命。
5.工件入槽時(shí)采取小批量同時(shí)入槽的方式,并記下每批入槽的準(zhǔn)確時(shí)間,鍍覆時(shí)間的長(zhǎng)短應(yīng)根據(jù)鍍層的厚度要求而定,必須采用測(cè)定小試片的鍍厚及鍍速來(lái)決定鍍覆時(shí)間。
6.工件放入鍍槽后要經(jīng)?;蝿?dòng)和攪拌,嚴(yán)禁相互接觸和碰撞,同時(shí)不斷變換工件放置位置,一般使盲孔向上,以利氣泡的排出,圓柱形工件應(yīng)豎直懸掛,以避免金屬屑等雜質(zhì)落于工件表面,造成鍍層出現(xiàn)毛刺。
7.化學(xué)鎳電鍍廠家講述,槽液的裝載量一般為1-2dm2/L,應(yīng)根據(jù)工件的數(shù)量選擇鍍槽大小,槽液多少;工件入槽的數(shù)量不能超過(guò)鍍槽裝載量的上限。
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