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氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。一段a（曲線ab段）：無孔層形成。通電剛開始的幾秒到幾十秒時間內(nèi)，鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續(xù)的、無孔的薄膜層，稱為無孔層或阻擋層，此膜的出現(xiàn)阻礙了電流的通過和膜層的繼續(xù)增厚。無孔層的厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現(xiàn)出由零急劇增至*大值。
影響陽極氧化的氧化膜質(zhì)量的因素主要有：
1、攪拌和移動：可促使電解液對流，強化冷卻效果，保證溶液溫度的均勻性，不會造成因金屬局部升溫而導致氧化膜的質(zhì)量下降。
2、鋁合金成分：一般來說，鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降，且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚，硬度也低，鋁氧化生產(chǎn)廠家，不同成分的鋁合金，在進行陽極氧化處理時要注意不能同槽進行。
影響陽極氧化氧化膜質(zhì)量的因素主要有：
氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下，當電流密度恒定時，常州鋁氧化，膜的生長速度與氧化時間成正比；但當膜生長到一定厚度時，由于膜電阻升高，鋁氧化加工，影響導電能力，而且由于溫升，膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到后面不再增加。
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